Laboratory and Equipment
制备与工艺设备：
大型电子束蒸发设备
自制ALD沉积（配等离子体）
光刻机（精度5微米）
管式退火炉（高温1200度）
快速热退火
超临界干燥仪
反应离子刻蚀仪
测试和表征设备：
高速摄像显微镜
光纤耦合光谱仪
微区光致发光谱仪
三维磁操控平台
电学及光电谱测试仪
紫外可见光吸收谱仪
Laboratory and Equipment
制备与工艺设备：
大型电子束蒸发设备
自制ALD沉积（配等离子体）
光刻机（精度5微米）
管式退火炉（高温1200度）
快速热退火
超临界干燥仪
反应离子刻蚀仪
测试和表征设备：
高速摄像显微镜
光纤耦合光谱仪
微区光致发光谱仪
三维磁操控平台
电学及光电谱测试仪
紫外可见光吸收谱仪